產(chǎn)品分類
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產(chǎn)品展示
高純銅靶
產(chǎn)品編號(hào)：Cu-target
產(chǎn)品簡(jiǎn)介： 主要應(yīng)用于鍍制反射薄膜，膜層附著性好，蒸發(fā)速率高，質(zhì)量達(dá)到國際最先進(jìn)水平。公司可根據(jù)客戶需求生產(chǎn)各種級(jí)別的產(chǎn)品。
可定制靶材規(guī)格：圓靶（圓弧靶）（直徑<1000mm，厚度>1mm），板靶(長*寬*高 不限），
管靶（外直徑<420mm,壁厚>6mm,長度<6000mm）
材料純度：>99.995%
金屬雜質(zhì)含量：（Al/Fe/Ca/Mg/Co/Ni/Cr/Mn/Ti/Na/K//P/W/Mo/Zn/Sn）：<10ppm
平整度（TIR）:<20μm
局部平整度（STIR）:<10μm
翹曲度（Warp）:<50μm
公安機(jī)關(guān)備案號(hào)35010202000884